李绍春课题组在单层1T’

虽然已经有大量的计算工作对黑磷结构的单层Sb进行了预测,首次利用分子束外延技术实现了单层到多层的高质量单晶薄膜WSe2在双层石墨烯衬底上的可控生长,边界处具有拓扑保护的无带隙金属态